【一次募集】産業技術実用化開発事業費補助金（サプライチェーン上不可欠性の高い半導体の生産設備の脱炭素化・刷新事業費補助金）＿令和3年度補正予算

設備投資計画が既に固まっており、早期に交付決定を受けて設備調達・工事発注を進めたい企業は一次募集が有利です。一次の締切（2022年1月14日）は年末年始直後と非常にタイトですが、採択後の交付決定が早いため、製造装置の長納期化が続く現状では時間的メリットが大きいです。一方、追加準備期間が必要な場合や申請書の完成度を高めたい場合は二次募集を選択してください。

公募説明会の資料はNEDO・経済産業省のウェブサイトで公開されることが一般的です。説明会開催後は速やかに確認し、資料をダウンロードしてください。説明会では申請書の書き方・審査のポイント・よくある質問への回答が示されているため、必ず目を通すことが申請書の品質向上につながります。

本補助金はマイコン・パワー半導体・アナログ半導体に特化した制度です。DRAMやNAND型フラッシュメモリ等の汎用メモリ、最先端ロジック半導体の製造設備は対象外となります。これらは産業・車載・インフラ向けの重要デバイスであり、日本が競争優位性を持つ分野に集中支援するという政策判断によるものです。

補助率1/3とは、補助対象経費の3分の1を国が補助し、残りの3分の2を事業者が自己負担する方式です。例えば補助対象経費が300億円の場合、国からの補助額は最大100億円（上限150億円の範囲内）となり、事業者負担は200億円です。自己負担分の資金調達（金融機関借入・自己資金等）も含めた投資計画を事前に検討しておく必要があります。

補助金の交付決定前に発注・契約した設備費用は原則として補助対象外となります。交付決定前の発注は「補助金ありき」での契約ではないため、補助金の趣旨に反するとみなされます。一次募集では交付決定のタイミングが早まるため、その点は有利ですが、申請中に先行発注することは避けてください。

はい、SiC（炭化ケイ素）・GaN（窒化ガリウム）を使った次世代パワー半導体の製造設備も対象となります。これらは従来のシリコン半導体より電力変換効率が高く、EV・再生可能エネルギー・産業機器での需要が急増しています。省エネ・脱炭素化に直結する設備として、審査での評価も高くなる傾向があります。

中小企業も申請できますが、上限150億円という規模感は大規模投資を前提としています。中小企業の場合でも、設備投資額が大きければ補助額も相応に大きくなります。ただし、補助率1/3なので自己負担（2/3）の資金調達能力が求められます。政府系金融機関（日本政策投資銀行・日本政策金融公庫等）の低利融資と組み合わせた資金計画の検討を推奨します。

本補助金（一次募集）は設備投資への大型補助であるため、他の補助金との組み合わせは費目が重複しない範囲で可能です。例えば、省エネ設備導入に対する「省エネルギー投資促進支援事業費補助金」との重複は原則認められませんが、異なる設備・工程に充てる場合は別途申請できます。また、NEDO・JST等の半導体関連技術開発補助（材料・プロセス研究開発）と組み合わせることで、製造設備投資と並行して技術力強化を図ることができます。税制面では「中小企業投資促進税制」や「カーボンニュートラルに向けた投資促進税制」の適用も同時に検討し、補助金＋税制優遇の最大活用を税理士と相談してください。二次募集（ID 65713）が採択不採択にかかわらず、一次募集での採択が最も早期の交付決定につながります。